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申请/专利权人：上海微釜半导体设备有限公司
摘要：本实用新型公开了一种立式反应炉装置，其特征在于，通过隔墙将所述立式炉装置分隔成晶圆承载器处理单元和晶圆处理单元，晶圆处理单元的数量为至少一个。本实用新型中，承载器传送机构和晶圆传送机构被配置成使晶圆处理单元的两套热处理炉共用一套晶圆承载器处理单元，同时在晶圆承载器处理单元的托架存储位置彼此相邻，可以使紧凑设计成为可能。因此本实用新型提供的立式炉组件的尺寸可以减小，或立式炉组件可以存储更多的晶圆承载器。同时，由于本实用新型中的两套炉体共用一套晶圆承载器处理单元，其中造价高昂的承载器传送机构、晶圆输送端口、晶圆传送机构相对热处理炉的平均费用大幅降低。
主权项：1.一种立式反应炉装置，其特征在于，通过隔墙将所述立式反应炉装置分隔成晶圆承载器处理单元和晶圆处理单元，晶圆处理单元的数量为至少两个；将晶圆承载器处理单元和晶圆处理单元的布置方向定义为纵向，为所述立式反应炉装置的长度方向，其中：晶圆承载器处理单元包括至少三个水平装载端口，外部搬运装置将晶圆承载器运送并放置在装载端口，同时，未被使用的装载端口能够被复用为存储晶圆承载器，提供存储晶圆承载器的存储位；晶圆承载器处理单元还包括承载器传送机构以及多个托架，每个托架用于提供存储晶圆承载器的存储位，托架的位置彼此相邻；隔墙上设有至少两个水平放置的输送端口，晶圆承载器处理单元的承载器传送机构用于在装载端口、托架以及输送端口之间转移晶圆承载器，通过输送端口在晶圆承载器处理单元和对应的晶圆处理单元之间输送晶圆；每个晶圆处理单元包括至少一套热处理设备以及晶舟，所有输送端口共用同一晶圆传输机构或者每个输送端口各自对应独立的晶圆传输机构，所有热处理设备共用同一晶圆传输机构或者每套热处理设备各自对应独立的晶圆传输机构；每套热处理设备包括一个热处理炉及相应的晶舟；每个所述晶圆处理单元中的每套所述热处理设备各用一套供排单元和控制单元，或者每个所述晶圆处理单元的所有所述热处理设备共有一套供排单元和控制单元；每个所述晶圆处理单元的每套热处理炉时能够同时进行相同的工艺或不同的工艺。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海微釜半导体设备有限公司 立式反应炉装置
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