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申请/专利权人：上海新微技术研发中心有限公司
摘要：本发明提供的一种非制冷红外探测器制造工艺，包括如下步骤：步骤一：在沉积非制冷红外探测器桥腿薄膜的晶圆上进行BARC涂布，在BARC涂布层上方涂覆一层光阻层；步骤二：对包含BARC涂布层以及光阻层的晶圆进行光刻，光刻区域为桥腿非保留区域，光刻后进行显影去除桥腿非保留区域的光阻层；步骤三：对桥腿非保留区域的BARC涂布层以及所述薄膜进行刻蚀，得到含有光阻层以及BARC涂布层的桥腿区域；步骤四：去除桥腿区域上的光阻层以及BARC涂布层。本发明在保证桥腿刻蚀后，桥腿结构完整的同时，还能够有效的去除在桥腿结构加工过程中残留的光阻层以及BARC涂布层。
主权项：1.一种非制冷红外探测器制造工艺，其特征在于，包括如下步骤：步骤一：在沉积非制冷红外探测器桥腿薄膜的晶圆上进行BARC涂布，在BARC涂布层上方涂覆一层光阻层；步骤二：对包含所述BARC涂布层以及所述光阻层的所述晶圆进行光刻，光刻区域为桥腿非保留区域，光刻后进行显影操作去除桥腿非保留区域的所述光阻层；步骤三：对桥腿非保留区域的所述BARC涂布层以及所述薄膜进行刻蚀，得到含有所述光阻层以及所述BARC涂布层的桥腿区域；步骤四：去除所述桥腿区域上的所述光阻层以及所述BARC涂布层，得到桥腿结构。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海新微技术研发中心有限公司 一种非制冷红外探测器制造工艺
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