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申请/专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方传感技术有限公司
摘要：本公开提供了一种探测基板、其制作方法及射线探测器，包括：衬底基板；相互独立的多个第一电极，在衬底基板上同层设置；光电转换层，在多个第一电极背离衬底基板的一侧整面设置；射线吸收层，位于光电转换层背离多个第一电极的一侧，射线吸收层在衬底基板上的正投影，与各第一电极之间的间隙在衬底基板上的正投影相互交叠；第二电极，在光电转换层背离多个第一电极的一侧整面设置。
主权项：1.一种探测基板，其特征在于，包括：衬底基板；相互独立的多个第一电极，在所述衬底基板上同层设置；光电转换层，在所述多个第一电极背离所述衬底基板的一侧整面设置；射线吸收层，位于所述光电转换层背离所述多个第一电极的一侧，所述射线吸收层在所述衬底基板上的正投影，与各所述第一电极之间的间隙在所述衬底基板上的正投影完全重合；第二电极，在所述光电转换层背离所述多个第一电极的一侧整面设置；其中，所述射线吸收层与所述第二电极直接接触；所述探测基板还包括：位于所述衬底基板与所述多个第一电极所在层之间的扫描信号线和读取信号线；所述射线吸收层在所述衬底基板上的正投影，完全覆盖所述扫描信号线和所述读取信号线在所述衬底基板上的正投影。
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百度查询： 京东方科技集团股份有限公司 北京京东方传感技术有限公司 探测基板、其制作方法及射线探测器
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