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填充方法及装置、计算装置和存储介质 

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申请/专利权人:北京华大九天科技股份有限公司

摘要:本发明公开了一种填充方法及装置、计算装置和存储介质。根据本发明实施例的填充方法应用于平板显示设计、集成电路设计等。该填充方法包括获取待填充区域,待填充区域为异形;采用不同的填充方案进行预填充,填充方案包括第一填充方案和第二填充方案;比较不同的填充方案中填充单元的数量,并选择填充单元数量最多的填充方案作为最终填充方案;根据最终填充方案,将填充单元填充至待填充区域,其中,沿第一方向,在待填充区域中填满填充单元,得到第一填充方案;沿第二方向,在待填充区域中填满填充单元,得到第二填充方案。根据本发明实施例的填充方法及装置、计算装置和存储介质,能够保证待填充区域中填充单元的密度。

主权项:1.一种填充方法,包括:获取待填充区域,所述待填充区域为异形;采用不同的填充方案进行预填充,所述填充方案包括第一填充方案和第二填充方案;比较不同的所述填充方案中填充单元的数量,并选择所述填充单元数量最多的填充方案作为最终填充方案;根据所述最终填充方案,将所述填充单元填充至所述待填充区域,其中,沿第一方向,在所述待填充区域中填满所述填充单元,得到所述第一填充方案;沿第二方向,在所述待填充区域中填满所述填充单元,得到所述第二填充方案;所述填充单元包括标准单元,每个所述填充单元的四周设置有净空区域;所述填充单元填充在所述待填充区域中,所述净空区域位于所述待填充区域中和或所述待填充区域外。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 北京华大九天科技股份有限公司 填充方法及装置、计算装置和存储介质

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