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一种单极性忆阻器及其制备方法和真随机数发生器 

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申请/专利权人:湖北大学

摘要:本发明提供一种单极性忆阻器的制备方法,所述制备方法包括制作衬底、制作底电极和功能层、光刻、制作顶电极和清洗。本发明抛弃了现有技术中多次光刻,并在完成底电极制作后对所述底电极的一部分进行遮盖处理,并在清洗前移除,以方便器件的后续使用和测试。本发明还提供了该制备方法得到的单极性忆阻器,以及利用所述单极性忆阻器构造的真随机数发生器。本发明提供的单极性忆阻器和真随机数发生器具备结构简单、高安全性、高效性等优点,能够在信息加密传输中有效地保护信息的安全。

主权项:1.一种单极性忆阻器的制备方法,其特征在于,所述方法包括:步骤S100:制作衬底;步骤S200:制作底电极,在所述底电极制作完成后,使用胶布对所述底电极的一部分进行遮盖处理;步骤S300:制作功能层,采用Ta2O5、HfO2双层薄膜作为所述单极性忆阻器的功能层;步骤S400:光刻;步骤S500:制作顶电极,获得单极性忆阻器;步骤S600:去除步骤S200中的所述胶布,并清洗所述单极性忆阻器。

全文数据:

权利要求:

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