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申请/专利权人：三星SDI株式会社
摘要：公开一种硬掩模组合物、包含所述硬掩模组合物的固化产物的硬掩模层以及使用包含所述硬掩模组合物的固化产物的所述硬掩模层来形成图案的方法。所述硬掩模组合物包含：聚合物，包括由化学式1表示的结构单元；以及溶剂：[化学式1]
主权项：1.一种硬掩模组合物，包含：聚合物，包括由化学式1表示的结构单元；以及溶剂：[化学式1] 其中，在化学式1中，A是包含经取代或未经取代的C6至C30芳族烃环或者经取代或未经取代的C3至C30杂芳环的二价有机基团，B是由化学式2表示的基团，且*是连结点：[化学式2] 其中，在化学式2中，R1到R8各自独立地为氢原子、经取代或未经取代的C1至C30饱和或不饱和脂族烃基、经取代或未经取代的C3至C30饱和或不饱和脂环族烃基、经取代或未经取代的C6至C30芳族烃基、或者经取代或未经取代的C3至C30杂芳族基团，R1到R8中的邻近两者是分开的或进行连结以形成环，条件是R1到R3中的邻近两者进行连结以形成至少一个环且R6到R8中的邻近两者进行连结以形成至少一个环，且*是连结点。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 三星SDI株式会社 硬掩模组合物、硬掩模层以及形成图案的方法
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