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申请/专利权人：复旦大学
摘要：本发明属于光电材料技术领域，具体为一种等离子辅助原子层沉积氧化硅包覆荧光粉的制备方法。该方法选取荧光粉基材，先将其置于等离子体发生器中；随后通入氩气和六甲基二硅氧烷，利用等离子体的能量在荧光粉表面成功沉积一层均匀且连续的二氧化硅薄膜；该沉积过程为1~3个周期进行，期间通过气流和旋转向心力确保粉体的充分混匀，保证粒子均匀包覆；最终将所得荧光粉经过研磨处理，制得表面沉积二氧化硅的荧光粉。本发明简化生产流程，降低生产难度，同时确保所制备的荧光粉在稳定性和耐用性方面相较于传统产品有显著提升，而其荧光特性保持不变，耐水、耐湿性得到了显著提升，可广泛用于LED显示、照明等光电器件的封装材料。
主权项：1.一种等离子辅助原子层沉积氧化硅包覆荧光粉的制备方法，其特征在于，具体步骤为：（1）荧光粉的预处理：将荧光粉置入等离子体发生器内，在干燥环境中进行预处理，除去表面吸附的水分；（2）等离子体发生器的气体注入：向等离子体发生器内注入氩气和六甲基二硅氧烷HMDSO，其体积比率控制在（20-30）:1之间；氩气作为稳定等离子体环境的惰性气体；HMDSO则作为硅源，在等离子体作用下分解，产生用于沉积二氧化硅的硅原子；（3）等离子体生成与二氧化硅沉积：通电至等离子体发生器，以生成等离子体，并开始在荧光粉表面沉积二氧化硅层；（4）沉积周期与混匀处理：执行步骤（3）的操作共1至3个周期，每个周期3至5分钟；每个沉积周期结束后，在等离子体发生器内通过气流的旋转向心力作用，使荧光粉充分混匀，以实现二氧化硅的均匀包覆；（5）荧光粉的后处理：在完成所有沉积周期之后，对荧光粉进行研磨处理，最终得到表面均匀包覆有二氧化硅的荧光粉。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 复旦大学 一种等离子辅助原子层沉积氧化硅包覆荧光粉的制备方法
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