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申请/专利权人：安徽亦高光电科技有限责任公司
摘要：本发明公开了一种高耐磨功能薄膜的制备方法，包括打底层、调色层、氮化碳膜层和耐磨层；基材正面沉积Sio2层作为打底层，接着镀调色层，采用Si3N4层、Sio2层交替组合的2层以上膜系，接着镀氮化碳膜层，最后蒸镀耐磨层。本发明使用碳硅综合膜系改善其硬度和耐磨测试指标；膜系第一层使用sio2层打底层缓冲，第二层再叠加调色层，改善膜层颜色和光学透过效果，然后镀氮化碳膜层作为超硬耐磨功能层，叠加耐磨层实现耐磨效果增强。
主权项：1.一种高耐磨功能薄膜的制备方法，包括打底层、调色层、氮化碳膜层和耐磨层；首先在玻璃基材上镀一层薄薄的Sio2层作为打底层，镀Sio2用中频电源溅射，功率设12～16KW，电压在400v～500v,氩气流量600～700sccm，氧气流量在80～120sccm，膜厚用晶控仪控制，厚度在5～20nm；接着镀调色层，采用Si3N4层、Sio2层交替组合的2层以上膜系，膜层厚度在5-300nm之间，镀Si3N4层的工艺参数设置：靶功率10-12KW,靶电压为400～500V、氩气供气量为200-400sccm,氮气流量在200～300sccm；镀Sio2层的工艺参数设置：靶功率12-16KW，靶电压为300～400V，氩气供气量为200-400sccm，氧气供气量为100-200sccm；接着镀氮化碳膜层，氮化碳采用直流或射频溅射的方法，靶材用碳靶或碳硅靶，在高真空的镀膜室充入高纯氮气和氩气，氩气作为辅助溅射气体，流量在200～400sccm，氮气作为反应气体，流量在150～200sccm；最后蒸镀耐磨层，采用电阻加热的方式，将AF药丸均匀蒸发到产品的膜层表面，AF蒸发的工艺参数：加热电流500-700A，膜层厚度在20～30nm。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 安徽亦高光电科技有限责任公司 一种高耐磨功能薄膜的制备方法
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