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申请/专利权人：中核四0四有限公司
摘要：本发明涉及一种表面处理装置，具体涉及一种离子束清洗和离子束溅射镀膜两用的装置，包括离子源、腔室和真空系统；腔室包括样品转移机构和送样门；样品转移机构固定于腔室顶壁，用于转移基材和靶材；送样门开设于腔室侧壁，用于将基材和靶材送入或取出腔室；腔室的侧壁还开设有用于通过离子束的开孔以及抽气孔；离子源通过开孔连通腔室，由离子源引出的离子束经开孔射入腔室内；真空系统通过抽气孔与腔室相连通。与现有技术相比，本装置可用于镀膜工艺前处理和表面放射性金属镀膜。在实际操作时无需破坏真空条件，即可进行离子镀膜和离子清洗，有效的将离子清洗和离子镀膜结合于一体，大大提高了镀膜工艺的处理效率。
主权项：1.一种离子束清洗和离子束溅射镀膜两用的装置，其特征在于，包括离子源、腔室（1）和真空系统；所述的腔室（1）包括样品转移机构（2）和送样门（3）；所述的样品转移机构（2）固定于腔室（1）顶壁，用于转移基材（6）和靶材（5）以及旋转靶材（5）；所述的送样门（3）开设于腔室（1）侧壁，用于将基材（6）和靶材（5）送入或取出腔室（1）；所述的腔室（1）的侧壁还开设有用于通过离子束（9）的开孔（8）以及抽气孔（4）；所述的离子源通过开孔（8）连通腔室（1），由离子源引出的离子束（9）经开孔（8）射入腔室（1）内；所述的真空系统通过抽气孔（4）与腔室（1）相连通；所述的腔室（1）还包括镀板（7），所述的镀板（7）固定于腔室（1）侧壁；所述的装置进行离子束清洗时，样品转移机构（2）将基材（6）转移至离子束（9）前方；所述的装置进行离子束溅射镀膜时，样品转移机构（2）将基材（6）转移至腔室（1）内部的侧边、镀板（7）的前方，将靶材（5）转移至离子束（9）前方，并将靶材（5）转向30-60°使基材（6）位于溅射形成的溅射粒子束（10）的前方。
全文数据：
权利要求：
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