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申请/专利权人：瓦克化学股份公司

摘要：本发明涉及在流化床反应器中通过含一氯甲烷的反应气体与含有硅和催化剂的颗粒接触物料的反应生产有机氯硅烷的方法，其中所述有机氯硅烷具有通式CH3nHSiCl4‑n‑m，其中n＝1至3且m＝0或1。所述反应器设计通过特征值K1描述，所述接触物料的构成通过特征值K2描述，反应条件通过特征值K3描述，其中K1的值为1至20，K2的值为0.001至200，K3的值为0.5至10,000。

主权项：1.在流化床反应器中通过含一氯甲烷的反应气体与含有硅和催化剂的颗粒接触物料的反应生产有机氯硅烷的方法，其中所述有机氯硅烷具有通式CH3nHmSiCl4-n-m，其中n＝1至3且m＝0或1，其特征在于：所述反应器设计通过如下特征值描述： 其中，φ＝反应器的填充水平，φ根据方程式3计算 其中，pdiff＝经过流化床的压力下降，以kgm×s2计，ρp＝接触物料的颗粒固体密度，以kgm3计，Vreactor,eff＝有效反应器体积，以m3计，Atot,cooled＝反应器中冷却的表面积之和，以m2计，dhyd＝液压反应器直径，以m计；其中，Vreactor,eff为1.5至2400m3，dhyd为0.1至1.5m，所述接触物料的构成通过如下特征值描述： 其中，BAK＝接触物料的粒径分布的宽度，以μm计，BAK根据方程式5得出BAK＝d90–d10，方程式5其中，d10是指所有颗粒的10％小于所述值的直径，以μm计，d90是指所有颗粒的90％小于所述值的直径，以μm计，d32＝颗粒Sauter直径，以μm计，RSi＝硅的纯度，δrel＝接触物料中的催化剂分布，其中，δrel为0.001至0.6，d32为5至350μm，其中δrel根据方程式6计算 其中，λ＝催化剂硅的质量比，Ospec,cat＝催化剂的平均比表面积，以m2kg计，及Ospec,SiG＝硅颗粒的平均比表面积，以m2kg计，BAK为10至1000μm，RSi为0.75至0.99999，反应条件通过如下特征值描述： 其中，uL＝气体空塔速度，以ms计，νF＝流体的运动粘度，以m2s计，ρF＝流体密度，以kgm3计，pdiff＝经过流化床的压力下降，以kgm×s2计，g＝重力加速度，以ms2计，其中，pdiff为10,000至200,000kgm×s2，uL为0.002至0.4ms，ρF为1至5kgm3，νF为3×10-6至2.5×10-5m2s，其中K1的值为1至30，K2的值为0.0005至2，K3的值为0.2至3000，其中所述催化剂选自以下组中：CuCl、CuCl2、CuP、CuO及其混合物。

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