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一种陶瓷微球包覆铁钴镍钐钕高熵涂层及其制备方法 

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申请/专利权人:中国航发北京航空材料研究院

摘要:本发明涉及航空发动机隐身材料技术领域,涉及一种陶瓷微球包覆铁钴镍钐钕高熵涂层及其制备方法,包括陶瓷微球选择、铁钴镍钐钕靶材制备和铁钴镍钐钕高熵涂层制备的步骤;其铁钴镍钐钕高熵涂层制备的步骤为:将铁钴镍钐钕高熵靶材装入电子束物理气相沉积设备沉积室,蒸发铁钴镍钐钕高熵靶材,铁钴镍钐钕高熵靶材的分子式为Fe0.2Co0.2Ni0.2Sm0.2Nd0.2,纯度大于98%;选择沉积工艺参数:沉积室的真空度1×10‑4Torr;电子束的束流强度1.8‑2.0A;陶瓷微球温度800‑1000℃;蒸发时间5‑60min;控制靶材蒸发时间,最终在陶瓷微球表面获得铁钴镍钐钕高熵涂层。本发明既能提升铁钴镍钐钕高熵包覆层的均匀性,又能提高陶瓷微球的电磁性能。

主权项:1.一种陶瓷微球包覆铁钴镍钐钕高熵涂层,其特征在于:所述陶瓷微球分子式为ZrO2,纯度大于95%,用过筛的方法保障陶瓷微球粒径为50~300微米;所述铁钴镍钐钕高熵涂层制备时用到的靶材的分子式为Fe0.2Co0.2Ni0.2Sm0.2Nd0.2,纯度大于98%;所述高熵涂层通过电子束物理气相沉积均匀包覆在陶瓷微球表面,其厚度在纳米级别,具有离散型和连续型两种组织结构,其成分为Fe0.2Co0.2Ni0.2Sm0.2Nd0.2,纯度为100%;所述高熵涂层通过以下步骤制备:步骤一、利用电子束熔炼的方法进行铁钴镍钐钕高熵靶材合成,其熔炼参数为加速电流20-25A,加速电压25-30kV,真空度1×10-4Torr;步骤二、将铁钴镍钐钕高熵靶材装入电子束物理气相沉积设备沉积室,蒸发铁钴镍钐钕高熵靶材,沉积工艺参数选取如下:沉积室的真空度1×10-4Torr;电子束的束流强度1.8-2.0A;陶瓷微球温度800-1000℃;蒸发时间5-60min;步骤三、冷却:将陶瓷微球冷却至150摄氏度以下,控制旋转速度,在转动的陶瓷微球表面获得铁钴镍钐钕高熵涂层。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中国航发北京航空材料研究院 一种陶瓷微球包覆铁钴镍钐钕高熵涂层及其制备方法

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