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申请/专利权人：复旦大学宁波研究院
摘要：本发明公开了一种半导体研磨主轴及半导体研磨设备，包括：支撑基座；主轴本体，通过磁浮装置支撑于所述支撑基座上，所述主轴本体的一端用于设置研磨盘，且所述磁浮装置至少包括轴向磁浮组件和径向磁浮组件，所述轴向磁浮组件用于为所述主轴本体提供轴向上的支撑力，所述径向磁浮组件用于为所述主轴本体提供径向上的支撑力。本发明在主轴本体和支撑基座之间构建磁场产生相互作用力，以使得主轴本体处于悬浮状态，形成没有机械接触式的转动支撑，因此摩擦损耗较小，而且因没有摩擦，避免了因磨损导致精度降低的问题，而且不需要气体作为润滑剂，因此可避免通入气体带来的污染问题。
主权项：1.一种半导体研磨主轴，其特征在于，包括：支撑基座；主轴本体100，通过磁浮装置支撑于所述支撑基座上，所述主轴本体100的一端用于设置研磨盘，且所述磁浮装置至少包括轴向磁浮组件和径向磁浮组件，所述轴向磁浮组件用于为所述主轴本体100提供轴向上的支撑力，所述径向磁浮组件用于为所述主轴本体100提供径向上的支撑力；所述轴向磁浮组件包括：轴向永磁体320，设置于所述主轴本体100上；第一轴向电磁装置310，设置于所述支撑基座上，且位于所述轴向永磁体320的远离所述研磨盘的一侧，并与所述轴向永磁体320产生斥力；第二轴向电磁装置330，设置于所述支撑基座上，且位于所述轴向永磁体320的靠近所述研磨盘的一侧，并与所述轴向永磁体320产生斥力，所述第一轴向电磁装置310包括多组轴向电磁线圈，且各组所述轴向电磁线圈均可分别控制。
全文数据：
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