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一种研磨装置和研磨方法 

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申请/专利权人:浙江光特科技有限公司

摘要:本发明提供一种研磨装置,包括研磨机构、定位机构、真空泵、夹持机构、陶瓷盘、真空罩,陶瓷盘上开设有若干通孔,陶瓷盘上设有若干定位柱,真空罩上部开孔,孔内安装密封圈,密封圈中插入有连接管,连接管上设有调节阀。相应地,本发明还提供一种所述研磨装置的研磨方法。本发明可以提高研磨的磷化铟晶圆片的均匀性,同时可以加快研磨后从陶瓷盘上取下磷化铟晶圆片的速度。

主权项:1.一种研磨装置,其特征在于:包括研磨机构、定位机构、真空泵、夹持机构、陶瓷盘、真空罩,所述陶瓷盘上开设有若干通孔,所述陶瓷盘上设有若干定位柱,所述真空罩上部开孔,所述真空罩上的孔内安装密封圈,所述密封圈中插入有连接管,所述连接管上设有调节阀,所述连接管上部设置抽真空管接头,所述真空罩下部设有一圈密封环,所述真空泵上连接有抽真空管,所述抽真空管另一端可插入抽真空管接头中,所述夹持机构包括支撑台、夹持件,所述支撑台上开设有容纳陶瓷盘的缺口,所述夹持件设置在支撑台上用于固定陶瓷盘,陶瓷盘对应贴附磷化铟晶圆片的位置涂抹一层蜡,磷化铟晶圆片贴附于陶瓷盘上的涂蜡处,所述定位机构包括定位环,所述定位环下部设有若干陶瓷块;所述研磨机构包括机架和供液罐,所述机架上部中间位置开设有凹槽,所述机架内部设有驱动电机,所述驱动电机的输出端驱动连接有旋转轴,所述旋转轴上部连接有研磨盘,所述研磨盘表面上设有数道导流槽,所述凹槽底部为由外至内向上倾斜设置,所述机架上部位于凹槽左右两侧的位置均连接有支撑柱,所述支撑柱上部设有支撑块,所述支撑块远离支撑柱的一侧连接有弧形板,所述弧形板上设有两个调节孔,所述调节孔中安装有定位轮,所述机架上位于凹槽后侧的位置设有供液泵,所述供液泵和供液罐之间连接有抽液管,所述供液泵远离抽液管的一侧连接有两个供液管,所述供液管前端连接有调节管,所述调节管与供液管的连接处设置有流量阀,所述供液罐上部设置有搅拌电机,所述搅拌电机的输出端连接有搅拌轴,所述搅拌轴外周设有若干搅拌叶。

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