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申请/专利权人：杭州广立微电子股份有限公司
摘要：本发明提供一种测试结构的版图设计方法、测试结构及可读存储介质，方法包括：在版图中，设计有至少两个金属层组；所述金属层组中包括多个金属层，同一个所述金属层组中的金属层设置有相同的目标图形；从每个所述金属层组中选择一个目标金属层，基于所述目标金属层中的目标图形形成所述测试结构。依据本专利所提供的一种测试结构的版图设计方法，只需要进行一次测试结构的版图设计，即能同时满足在不同金属层选择方案下进行性能监测，最大程度上满足测试需求且节省设计次数，降低出错率。
主权项：1.一种测试结构的版图设计方法，其特征在于，包括：在版图中，设计有至少两个金属层组；所述金属层组中包括多个金属层，同一个所述金属层组中的金属层设置有相同的目标图形；从每个所述金属层组中选择一个目标金属层，基于所述目标金属层中的目标图形形成所述测试结构。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 杭州广立微电子股份有限公司 一种测试结构的版图设计方法、测试结构及可读存储介质
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