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一种耐高温陶瓷的制备方法和耐高温陶瓷 

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申请/专利权人:湖南博望碳陶有限公司

摘要:本发明提供了一种耐高温陶瓷的制备方法和耐高温陶瓷。该制备方法包括以下步骤:S1:用SiC陶瓷前驱体对基体进行PIP工艺处理;S2:将SiC浆料涂覆于步骤S1处理后的基体表面,在保护性气氛中进行第一次烧结;S3:将步骤S2处理后的基体包埋于SiC粉料中,在保护性气氛中进行第二次烧结,得到所述的耐高温陶瓷。该方法操作简单,成本低,在烧制过程中陶瓷涂层耐温性好,不会出现粉化等现象。本发明还提供了由上述制备方法制得的耐高温陶瓷。

主权项:1.一种耐高温陶瓷的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:S1:用SiC陶瓷前驱体对基体进行PIP工艺处理;S2:将SiC浆料涂覆于步骤S1处理后的基体表面,在保护性气氛中进行第一次烧结;S3:将步骤S2处理后的基体包埋于SiC粉料中,在保护性气氛中进行第二次烧结,得到所述的耐高温陶瓷;所述SiC陶瓷前驱体选自聚甲基硅烷和聚碳硅烷中的至少一种;所述基体选自石墨基体、碳碳基体和陶瓷基体中的一种;以质量百分比计,所述SiC浆料包括:聚甲基硅烷:30wt%~40wt%,甲苯:10wt%~20wt%,碳化硅粉:30wt%~50wt%;所述第一次烧结的温度为850℃~950℃;所述第二次烧结的温度为1900℃~2100℃;步骤S3中,将所述基体包埋于碳化硅粉料中烧结,在第二次烧结过程中,SiC发生蒸发现象,使基体置于SiC的蒸汽氛围中,所述基体外的SiC蒸汽浓度高于基体内浓度,使得SiC蒸汽向基体内部扩散,扩散的SiC蒸汽会沉积在基体内的碳化硅上,达到填充孔洞的目的;所述PIP工艺处理的次数为2~3个周期;所述PIP工艺处理的温度为850℃~950℃。

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