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光源调制模块及方法、光学相干层析成像分析系统及方法 

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申请/专利权人:淮阴工学院

摘要:本发明提出了一种光源调制模块及方法、光学相干层析成像分析系统及方法,通过对光学相干层析成像系统的光源进行频率调制去除复共轭像,包括光纤耦合器一、动镜模块、静镜模块和光纤耦合器二;所述光纤耦合器一对普通光源进行耦合后分别入射至动镜模块和静镜模块,经动镜模块和静镜模块反射的反射光送入所述光纤耦合器二进行耦合得到干涉信号,该干涉信号作为光学相干层析成像系统的光源入射至光学相干层析成像系统;所述动镜模块包括依次设置的准直透镜一、平面反射镜一和驱动所述平面反射镜一进行移动的电机;所述静镜模块包括依次设置的准直透镜二和平面反射镜二。

主权项:1.一种成像分析方法,其特征在于:包括以下步骤:S1:搭建成像系统;所述成像系统包括:光源调制模块、偏振控制器一PC1、偏振控制器二PC2、偏振控制器三PC3、偏振控制器四PC4、准直透镜三L3、准直透镜四L4、准直透镜五L5、聚焦透镜一L6、聚焦透镜二FL、参照反射镜M3、扫描振镜GM、光栅Grating和线阵CCD;所述偏振控制器一PC1、偏振控制器二PC2、偏振控制器三PC3、偏振控制器四PC4用于控制光纤耦合器二FC2四条光路的偏振态,增加线阵CCD上采集到的干涉条纹对比度;具体的,所述偏振控制器一PC1用于控制经动镜模块和静镜模块反射的反射光的偏振态,该偏振控制器一PC1设置在光纤耦合器二FC2用于接收经动镜模块和静镜模块反射的反射光的臂上;所述偏振控制器二PC2设置在光纤耦合器二FC2与准直透镜四L4之间;所述偏振控制器三PC3设置在光纤耦合器二FC2与准直透镜三L3之间;所述偏振控制器四PC4设置在光纤耦合器二FC2与准直透镜五L5之间;S2:由所述光源调制模块产生的光源入射后分为两路,一路经过准直透镜三L3准直后经扫描振镜GM反射和聚焦透镜一L6聚焦后照在样品上;另一路经准直透镜四L4准直后入射至参考反射镜M3上;S2:获取样品的背向散射光和参考反射镜的反射光;S3:将S2获取到的光通过准直透镜五L5准直后经过光栅Grating衍射,得到不同波长的衍射光;S4:衍射光经聚焦透镜二FL聚焦后由线阵CCD采集输入至计算机,得到干涉光谱信号;S5:对干涉光谱信息进行处理,得到样品的深度结构信息;其中,所述光源调制模块包括:光纤耦合器一FC1、动镜模块、静镜模块和光纤耦合器二FC2;所述光纤耦合器一FC1对普通光源进行耦合后分别入射至动镜模块和静镜模块,经动镜模块和静镜模块反射的反射光送入所述光纤耦合器二FC2进行耦合得到干涉信号,该干涉信号作为成像系统的光源入射至成像系统;所述动镜模块包括依次设置的准直透镜一L1、平面反射镜一M1和驱动所述平面反射镜一M1进行移动的电机;所述静镜模块包括依次设置的准直透镜二L2和平面反射镜二M2;所述S5具体包括以下步骤:对干涉光谱信号沿横向扫描方向得到重构复数域的干涉光谱信号;对复数域的干涉光谱信号沿纵向扫描方法进行傅里叶变换,重构样品的纵向信息。

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