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一种用于光刻胶顶层涂层的组合物及其聚合物制备方法 

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申请/专利权人:中节能万润股份有限公司

摘要:本发明涉及一种用于光刻胶顶层涂层的组合物及其聚合物制备方法,所述的组合物中至少包含如下两种聚合物:a、b、c、x、y、z分别为聚合物重复单元的质量分数,a选自30‑60%,b选自5‑20%,c选自20‑50%;x选自5‑20%,y选自1‑10%,z选自70~90%;聚合物I和聚合物II的分子量分别选自1000‑30000Da,分子量分散系数分别选自1.0‑4.0。所述的组合物用于光刻胶顶层涂层具有较高的后退角,可减少光致产酸剂在水中的沥出。

主权项:1.一种用于光刻胶顶层涂层的组合物,其特征在于,所述的组合物中至少包含如下两种聚合物: ;a、b、c、x、y、z分别为聚合物重复单元的质量分数,a选自30-60%,b选自5-20%,c选自20-50%;x选自5-20%,y选自1-10%,z选自70~90%;聚合物I和聚合物II的分子量分别选自1000-30000Da,聚合物I和聚合物II的分子量分散系数分别选自1.0-4.0;所述的组合物包括聚合物I、聚合物II、光致产酸剂和电子级溶剂;所述组合物中,聚合物I所占组合物的质量分数为1-10%,聚合物II所占组合物的质量分数为1-10%,光致产酸剂所占组合物的质量分数为0.01-0.2%,余量为电子级溶剂。

全文数据:

权利要求:

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