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申请/专利权人：苏州迈为科技股份有限公司;苏州迈正科技有限公司
摘要：本申请涉及一种大面积等离子体放电结构及真空镀膜设备。大面积等离子体放电结构包括上电极模组和下电极模组，上电极模组与下电极模组间形成有镀膜电场，上电极模组包括背板、喷淋头及介质板，背板连接射频电源及用于通入工艺气体；喷淋头安装于所述背板，其背离背板的一侧具有凹陷部；介质板与喷淋头可拆卸连接，介质板靠近喷淋头的一侧朝向凹陷部，介质板的数量为多个，多个介质板相搭接构成整个上电极模组的下表面。通过上述设置，介质板与喷淋头之间形成中间空间大、边缘空间小的真空放电区域，削弱射频源中电信号横向的驻波效应的影响，保证阴极模组与阳极模组之间形成的镀膜电场的均匀性，提升镀膜过程中膜层的均匀性。
主权项：1.一种大面积等离子体放电结构，其特征在于，所述大面积等离子体放电结构包括上电极模组和下电极模组，所述上电极模组与所述下电极模组间形成有镀膜电场，所述上电极模组包括：背板，所述背板连接射频电源及用于通入工艺气体；喷淋头，所述喷淋头安装于所述背板，其背离所述背板的一侧具有凹陷部；介质板，所述介质板与所述喷淋头可拆卸连接，所述介质板靠近所述喷淋头的一侧朝向所述凹陷部，所述介质板的数量为多个，多个所述介质板相搭接构成整个所述上电极模组的下表面。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 苏州迈为科技股份有限公司 苏州迈正科技有限公司 大面积等离子体放电结构及真空镀膜设备
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