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摘要:本发明公开了一种用于电助光催化抛光大尺寸金刚石的抛光盘,包括支撑盘、接触盘、光源、过孔式电液滑环、电源供应部件和液体供应部件。抛光盘为中空式抛光盘,上表面设置有许多通孔且上表面设置有多圈环槽;光源设置在抛光盘中间,光源发出的光照射范围为待抛光金刚石的待抛光面;过孔式电液滑环设置在抛光盘上方,向抛光盘供应电源和液体并传递运动;液体供应部分,用于向光源提供冷却液并回收废液;在抛光过程中,待抛光金刚石的待抛光面浸润在抛光液中;光源发出的光照射在待抛光表面,同一时刻发生氧化反应以及抛光垫对金刚石表面的研磨反应。本发明实施例可以提高金刚石的材料去除率和表面质量。
主权项:1.一种用于电助光催化抛光大尺寸金刚石的抛光盘,其特征在于,包括:支撑盘,所述支撑盘为中空式结构,所述支撑盘中设置有许多通孔且上表面设置有多圈环槽,所述通孔用于放置石墨电极,环槽用于放置导电环;接触盘,设置于支撑盘下方,所述接触盘上均匀设置多圈通孔,通孔位置与所述支撑盘一一对应;导电环,设置于所述支撑盘上方的环槽中,与石墨电极接触,形成通电回路;抛光头,设置于所述接触盘的下方,所述抛光头上表面设置有金刚石放置槽,用于放置待抛光的金刚石;抛光垫,设置在所述待抛光金刚石的待抛光面上,所述抛光垫的面积大于等于待抛光面的面积;光源,设置在所述支撑盘中间;所述光源发出的光照射范围为待抛光金刚石的待抛光面;液体供应部分,用于向所述光源提供冷却液并回收废液;在抛光过程中,所述液体供应部分通过电液滑环将外界冷却液输入所述光源;其中,在抛光过程中,向所述抛光垫中滴入抛光液,同一时刻,抛光垫与抛光盘同时作用下对待抛光金刚石的待抛光面进行研磨;同一时刻,在所述光源的照射下,抛光液与所述待抛光金刚石的待抛光面发生氧化反应,从而实现抛光过程。
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百度查询: 沈阳工业大学 一种用于电助光催化抛光大尺寸金刚石的抛光盘
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