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申请/专利权人：沈阳工业大学
摘要：本发明公开了一种用于电助光催化抛光大尺寸金刚石的抛光盘，包括支撑盘、接触盘、光源、过孔式电液滑环、电源供应部件和液体供应部件。抛光盘为中空式抛光盘，上表面设置有许多通孔且上表面设置有多圈环槽；光源设置在抛光盘中间，光源发出的光照射范围为待抛光金刚石的待抛光面；过孔式电液滑环设置在抛光盘上方，向抛光盘供应电源和液体并传递运动；液体供应部分，用于向光源提供冷却液并回收废液；在抛光过程中，待抛光金刚石的待抛光面浸润在抛光液中；光源发出的光照射在待抛光表面，同一时刻发生氧化反应以及抛光垫对金刚石表面的研磨反应。本发明实施例可以提高金刚石的材料去除率和表面质量。
主权项：1.一种用于电助光催化抛光大尺寸金刚石的抛光盘，其特征在于，包括：支撑盘，所述支撑盘为中空式结构，所述支撑盘中设置有许多通孔且上表面设置有多圈环槽，所述通孔用于放置石墨电极，环槽用于放置导电环；接触盘，设置于支撑盘下方，所述接触盘上均匀设置多圈通孔，通孔位置与所述支撑盘一一对应；导电环，设置于所述支撑盘上方的环槽中，与石墨电极接触，形成通电回路；抛光头，设置于所述接触盘的下方，所述抛光头上表面设置有金刚石放置槽，用于放置待抛光的金刚石；抛光垫，设置在所述待抛光金刚石的待抛光面上，所述抛光垫的面积大于等于待抛光面的面积；光源，设置在所述支撑盘中间；所述光源发出的光照射范围为待抛光金刚石的待抛光面；液体供应部分，用于向所述光源提供冷却液并回收废液；在抛光过程中，所述液体供应部分通过电液滑环将外界冷却液输入所述光源；其中，在抛光过程中，向所述抛光垫中滴入抛光液，同一时刻，抛光垫与抛光盘同时作用下对待抛光金刚石的待抛光面进行研磨；同一时刻，在所述光源的照射下，抛光液与所述待抛光金刚石的待抛光面发生氧化反应，从而实现抛光过程。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 沈阳工业大学 一种用于电助光催化抛光大尺寸金刚石的抛光盘
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