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限制任意激光模板投影的激光曝光的系统和方法 

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申请/专利权人:维尔泰克视觉国际有限公司

摘要:本申请涉及限制任意激光模板投影的激光曝光的系统和方法。用于将提供最佳激光能量的激光图像投影到工作表面上的激光投影系统包括激光源和用于调制输出功率水平的电子电路。检流计组件包括扫描镜,该扫描镜由镜控制电路操作,以沿着扫描路径将激光束重定向到工作表面上以生成激光图像。检流计组件电连接到电子电路,用于向电子电路发信号通知扫描镜的角速度。控制器包括扫描路径输入模块,用于生成沿着扫描路径的扫描镜的角速度的模拟,以估计沿着激光束的扫描路径的区域的激光能量的集中度。电子电路响应于估计的激光能量集中度和扫描镜的角速度来调制激光束的能量集中度。

主权项:1.一种激光投影系统,用于将提供优化的激光能量的激光图像投影到工作表面上,所述激光投影系统包括:激光源,所述激光源生成用于将激光图像投影到工作表面上的激光束;电子电路,用于调制所述激光源的输出功率水平;包括扫描镜的检流计组件,所述扫描镜能够由镜控制电路操作以将激光束沿着扫描路径重定向到工作表面上,从而生成激光图像,所述检流计组件电连接到所述电子电路,以用于向所述电子电路发信号通知所述扫描镜的角速度;控制器,包括扫描路径输入模块,用于生成在生成激光图像时沿所述扫描路径的所述扫描镜的角速度的模拟,从而估计沿激光束的扫描路径的区域的激光能量的集中度;以及所述电子电路响应于估计的沿扫描路径的激光能量的集中度和所述扫描镜的角速度来调制沿扫描路径的区域的激光能量的集中度,从而将激光能量的集中度保持在预定阈值以下。

全文数据:

权利要求:

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