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申请/专利权人：一塔半导体(安徽)有限公司
摘要：本发明公开了一种多片行星式MOCVD设备的气悬浮装置及MOCVD设备，本发明涉半导体技术领域，包括母盘；所述母盘上表面沿周向均匀布置至少3个基座，并且每个基座内均放置有1个载片盘；每个基座的中央均设有顶针以及环绕所述顶针等间距分布的至少3个出气孔；所述每个载片盘的背部均布有至少3条弧形导气槽；所述弧形导气槽围绕所述载片盘的中轴线旋转对称，所述载片盘的背部的中心还设有与所述顶针配合的旋转限位孔。使得载片盘悬浮更加稳定，同时在载片盘的背部设置了若干弧形导气槽，使得其旋转要更为稳定。气悬浮装置用出气孔代替传统的结构复杂的出气槽，达到同样的悬浮旋转的效果同时降低了母盘的加工难度，增加了母盘的使用寿命。
主权项：1.一种多片行星式MOCVD设备的气悬浮装置，其特征在于：包括母盘；所述母盘上表面沿周向均匀布置至少3个基座，并且每个基座内均放置有1个载片盘；每个基座的中央均设有顶针，并且每个基座围绕所述顶针的同心圆上设有朝向所述载片盘的至少2个出气孔，当所述出气孔数量大于2个时，所述出气孔等间距分布；每个所述载片盘的背部均布设有至少3条弧形导气槽；所述弧形导气槽围绕所述载片盘的旋转中心轴线旋转对称，每个载片盘背部的导气槽的首端到载片盘旋转中心轴线的距离与所述载片盘对应的所述基座内的所述出气孔到所述基座的中心的距离相等，所述导气槽的尾端延伸至所述载片盘的边缘；所述载片盘的背部的中心还设有与所述顶针配合的旋转限位孔，当所述出气孔向所述载片盘喷出气体时，所述载片盘可向上悬浮同时所述气体在弧形导气槽里流动带动所述载片盘围绕所述载片盘的旋转中心轴线旋转。
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权利要求：
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