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申请/专利权人：中国科学院电工研究所
摘要：本发明公开了一种曲面光滑基底的制备方法，涉及光滑基底制备技术领域，包括以下步骤：S1、确定原始基底的曲面形状和尺寸，在基座上加工出原始基底，在原始基底上设置多个通孔；S2、选择尺寸合适的单面抛光片，将单面抛光片置于原始基底上，在单面抛光片的非抛光面上设置若干个调节件，每个调节件远离单面抛光片的一端穿过与之对应的通孔；S3、驱动调节件远离单面抛光片的一端位移，使单面抛光片相应的位置发生弯曲变形，实时观察单面抛光片的形状，当单面抛光片表面的形状与所需基底形状一致时，停止调节件移动；S4、利用液态胶将硅片和原始基底之间的空隙填满；S5、待液态胶固化后，即可获得所需产品。本发明能够用于制造光滑基底。
主权项：1.一种曲面光滑基底的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、确定原始基底的曲面形状和尺寸，在基座上加工出所述原始基底，在所述原始基底上设置多个通孔，所述通孔贯穿所述基座；S2、选择尺寸合适的单面抛光片，将所述单面抛光片置于所述原始基底上，所述单面抛光片的抛光面向上，在所述单面抛光片的非抛光面上设置若干个调节件，所述调节件和所述通孔数量相同，每个所述调节件远离所述单面抛光片的一端穿过与之对应的所述通孔；S3、驱动所述调节件远离所述单面抛光片的一端位移，使所述单面抛光片相应的位置发生弯曲变形，调整过程中，实时观察所述单面抛光片的形状，当所述单面抛光片表面的形状与所需基底形状一致时，停止调节件移动；S4、利用液态胶将所述单面抛光片和原始基底之间的空隙填满；S5、待所述液态胶固化后，即可获得所需产品。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 中国科学院电工研究所 一种曲面光滑基底的制备方法
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