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申请/专利权人：ASML荷兰有限公司
摘要：描述了一种用于清洁光刻设备夹具上的污染颗粒的系统。该系统包括主体，该主体被配置为插入到光刻设备中，由光刻设备的工具处理器接合，并由工具处理器定位以用于由夹具夹持。清洁特征被图案化在主体的夹具面对表面。夹具面对表面上的清洁特征的位置和尺寸近似于夹具上污染颗粒的位置和尺寸，使得清洁特征和夹具之间的相对移动清洁来自夹具的污染颗粒。例如，夹具面对表面上的清洁特征的位置对应于夹具上污染颗粒所在的掩模版接触区域例如，突节。清洁特征的尺寸包括特定节距、线宽和厚度。
主权项：1.一种用于清洁来自光刻设备的夹具的污染颗粒的方法，所述方法包括：将主体插入到所述光刻设备中，所述主体包括设置在所述主体的夹具接合表面上的清洁特征，其中，所述夹具接合表面上的所述清洁特征的位置和间距近似于所述夹具上的污染颗粒的位置和间距；将所述主体与所述夹具相接合；并且引起所述清洁特征和所述夹具之间的相对移动，以清洁来自所述夹具的所述污染颗粒。
全文数据：
权利要求：
百度查询： ASML荷兰有限公司 用于清洁光刻设备的一部分的系统和方法
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