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申请/专利权人：广州新锐光掩模科技有限公司
摘要：本申请提供一种光掩模及制造方法、版图与改善光掩模对准精度的方法，其中光掩模版图包括：多个预设对准标记；成对图案对称设置于第一版图层，在相邻两成对图案之间设置多个预设对准标记；其中，相移光掩模包括第一版图层与至少一个第二版图层，在相移光掩模制作过程中采用部分预设对准标记来将第一版图层的位置与第二版图层对准后进行曝光，以提升对准定位精度，增加预设对准标记的利用次数。通过更改相移光掩模版图上对准标记的排布，并在制作相移光掩模过程中进行制程改善，显著提升了PSM第二层版图与首层版图的对准精度和稳定性。此外，经过优化的设备调整，实现marks的重复使用，支持多次对准曝光，以满足更加广泛的工艺要求。
主权项：1.一种光掩模版图，其特征在于，所述光掩模版图包括：多个预设对准标记；成对图案对称设置于第一版图层，在相邻两成对图案之间设置多个预设对准标记；其中，相移光掩模包括第一版图层与至少一个第二版图层，在相移光掩模制作过程中采用部分预设对准标记来将所述第一版图层的位置与第二版图层对准后进行曝光，以提升对准定位精度，增加所述预设对准标记的利用次数。
全文数据：
权利要求：
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