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申请/专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
摘要：一种微影系统的方法，包含：其在转移光罩组至与基板的区域有关的位置时，通过框架保护光罩组的光罩。该框架有小于聚焦平面的高度，该聚焦平面和选择的粒子大小有关；引导极紫外光辐射至光罩，反射带有光罩图案的辐射至光罩层；根据图案，在光罩层底下生成半导体元件的特征。
主权项：1.一种微影系统的方法，其特征在于，包含：沉积一遮罩层于一基板上；由一框架保护一光罩组的一光罩，是于转移该光罩组至与该基板的一区域有关联一位置时；引导第一辐射自一微影系统的一第一反射器至该光罩，该第一辐射行经自该第一反射器至该光罩而被直接入射于该光罩；引导自该光罩反射的第二辐射至该微影系统的一第二反射器，该第二辐射行经自该光罩至该第二反射器而被直接入射于该第二反射器；反射带有该光罩的一图案的辐射至该遮罩层，该辐射是基于该第二辐射；基于该图案移除该遮罩层的一图案区，以形成一第一开孔于该遮罩层；移除经由该第一开孔所暴露的在该光罩层下方的一层的材料，以形成一第二开孔；以及形成一半导体元件的一特征于该第二开孔。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 台湾积体电路制造股份有限公司 微影系统的方法
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