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申请/专利权人：FHR设备制造有限公司
摘要：本发明涉及一种用于制作光学层系统的方法以及光学层系统，所述光学层系统包括布置在基板上的多个层，其中所述层的一部分具有高折射率nH，并且所述层的另一部分具有具有低折射率nL，且所述层的又一部分具有中折射率nM，其中nH＞nM＞nL，并且其中具有不同折射率的层交替堆叠布置。本发明的目的是提供一种方法，该方法使得各层沉积物之间不具有长冲洗时间，其中光学层系统能够通过以下方式简单、工艺时间较短、质量一致、数量大地实现：所述光学层系统的层借助选定的涂层方法由相同的材料沉积到基板上，所述材料是氢化非晶硅a‑Si:H或氢化锗Ge:H，其中通过控制选定的涂层方法的工艺参数来调节层系统的多个层中的每层的折射率和消光系数。
主权项：1.一种用于制作由多个层组成的光学层系统的方法，其中所述光学层系统的层借助选定的涂层方法由相同的材料沉积到基板上，所述材料是氢化非晶硅a-Si:H或氢化锗Ge:H，其中通过控制选定的涂层方法的工艺参数来调节层系统的多个层中的每层的折射率和消光系数。
全文数据：
权利要求：
百度查询： FHR设备制造有限公司 制造光学层系统的方法以及利用该方法制造的光学层系统
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