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申请/专利权人：光科芯图(北京)科技有限公司
摘要：本发明涉及光刻技术领域，特别涉及一种平面波极紫外光产生方法、全息掩模光刻方法及装置。本发明提供的一种平面波极紫外光产生方法，包括以下步骤：提供非平面波的初始极紫外光，且极紫外光基于预设荧光球形成扭曲波前；扭曲波前通过预设可变形镜后基于预设算法转变为点扩散函数；获取点扩散函数与预设理想点函数之间的差值以获得光程差；基于光程差调整可变形镜的位置以对扭曲波前进行相位补偿并获得平面波的极紫外光。本发明还提供一种全息掩模光刻方法及装置。解决现有的无电极箍缩系统进行全息掩模光刻则无法获得清晰的成像的问题。
主权项：1.一种平面波极紫外光产生方法，其特征在于，包括以下步骤：提供非平面波的初始极紫外光，且极紫外光基于预设荧光球形成扭曲波前；扭曲波前通过预设可变形镜后基于预设算法转变为点扩散函数；获取点扩散函数与预设理想点函数之间的差值以获得光程差；基于光程差调整可变形镜的位置以对扭曲波前进行相位补偿并获得平面波的极紫外光。
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权利要求：
百度查询： 光科芯图(北京)科技有限公司 一种平面波极紫外光产生方法、全息掩模光刻方法及装置
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