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申请/专利权人：日东电工株式会社
摘要：本发明的带防污层的光学薄膜F依次具备透明基材11、硬涂层12、无机氧化物基底层13和防污层14。防污层14为配置在无机氧化物基底层13上的干法涂布膜。防污层14的与无机氧化物基底层13相反一侧的表面14a的、在温度为25℃且最大压痕深度为200nm的条件下利用纳米压痕法而测得的弹性恢复率为76％以上。
主权项：1.一种带防污层的光学薄膜，其依次具备透明基材、硬涂层、无机氧化物基底层和防污层，所述无机氧化物基底层包含二氧化硅，所述防污层为配置在所述无机氧化物基底层上的、具有全氟聚醚基的烷氧基硅烷化合物的真空蒸镀膜，所述具有全氟聚醚基的烷氧基硅烷化合物为下述通式1所示的化合物，R1-R2-X-CH2m-SiOR331通式1中，R1表示全氟烷基，R2表示包含-OCF2p-和-OC2F4p-的全氟聚醚基重复结构，p表示1以上且50以下的整数，R3表示碳原子数1以上且4以下的烷基，X表示醚基、羰基、氨基或酰胺基，m表示1以上的整数，所述防污层的与所述无机氧化物基底层相反一侧的表面的、在温度为25℃且最大压痕深度为200nm的条件下利用纳米压痕法而测得的弹性恢复率为76％以上，所述防污层的与所述无机氧化物基底层处于相反侧的表面的、通过纳米压痕法测得的25℃下的硬度为1.05GPa以上。
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