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申请/专利权人：广州粤升半导体设备有限公司
摘要：本实用新型涉及半导体生产设备技术领域，具体公开了一种可均匀洗气的单晶炉，包括腔体，腔体侧边和上端分别设有若干进气口，腔体内部设有圆柱环，圆柱环上设有若干通孔，通孔侧边均设有若干与之固定安装的导向片，通过在腔体的侧边和上端分别设有若干与腔体内部连通用于往腔体内部输送惰性气体的进气口，这样能够使得进气的气体能够快速扩散到腔体内的大部分位置，并且还在腔体内设有圆柱环，且在圆柱环上设有若干通孔，通孔的侧边均设有若干导向片，通过在通孔的侧边设有若干导向片，这样使得进气的气体由于导向片的引导能够更快速精准的到达腔体内部的各个位置，从而能使腔体内快速进行均匀洗气而达到极限真空状态，进而提高相应工作效率。
主权项：1.一种可均匀洗气的单晶炉，包括腔体1，其特征在于，所述腔体1侧边和上端分别设有若干与腔体1内部连通用于往内输送惰性气体的进气口2，所述腔体1内部设有圆柱环3，所述圆柱环3上设有若干通孔30，所述通孔30侧边均设有若干与之固定安装用于引导气体走向的导向片31。
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权利要求：
百度查询： 广州粤升半导体设备有限公司 一种可均匀洗气的单晶炉
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