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申请/专利权人:卡尔蔡司SMT有限责任公司
摘要:本发明涉及一种用于从基板310,402移除至少一个单一微粒320的装置300、400及方法2000,其中该基板尤其是用于极紫外光光刻的光学元件,其中所述装置300、400包括:a分析单元330,设计为确定至少一个单一微粒320的材料组成的至少一个成分;b至少一个注气系统360,设计为给该单一微粒320的环境提供与特定成分相配的气体370、1470,c其中,相配的气体370,1470用于将该单一微粒320从基板310移除。
主权项:1.一种用于从基板310移除至少一个微粒320的方法2000,该方法包括:a.提供储存多种气体的多个贮气罐425,430,435,440,445,450,455,460,其中每个贮气罐425,430,435,440,445,450,455,460储存各自的气体;b.从所述多种气体中确定与所述至少一个微粒320的材料组成的至少一个确定成分相配的气体;以及c.在所述至少一个微粒320的环境中提供所述气体,其中所述气体对从所述基板310移除所述至少一个微粒320有贡献。
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权利要求:
百度查询: 卡尔蔡司SMT有限责任公司 用于从基板移除单一微粒的装置与方法
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