首页 专利交易 科技果 科技人才 科技服务 国际服务 商标交易 会员权益 IP管家助手 需求市场 关于龙图腾
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索

VCSEL发光点和VCSEL阵列以及光学设备和VCSEL器件的制造方法 

买专利卖专利找龙图腾,真高效! 查专利查商标用IPTOP,全免费!专利年费监控用IP管家,真方便!

申请/专利权人:浙江睿熙科技有限公司

摘要:公开了一种VCSEL发光点和VCSEL阵列以及光学设备和VCSEL器件的制造方法。所述发光点主体包括:衬底层、底部镜部分、有源区、主限制层、顶部镜部分和电极接触层。底部镜部分,所述底部镜部分形成于所述衬底层上,所述底部镜部分包括底部隧道结、底部P‑DBR层、底部限制层。所述顶部镜部分包括至少一顶部P‑DBR层和顶部隧道结,所述顶部隧道结叠置于所述顶部P‑DBR层。所述有源区和所述主限制层位于所述底部镜部分与所述顶部镜部分之间。所述电极接触层形成于所述顶部镜部分上。所述VCSEL阳极包括第一N型金属层,所述第一N型金属层形成于所述N型衬底层。所述VCSEL阴极包括电极金属层,所述电极金属层形成于所述电极接触层上。

主权项:1.一种VCSEL发光点,其特征在于,包括:发光点主体,所述发光点主体包括:衬底层;底部镜部分,所述底部镜部分形成于所述衬底层上,所述底部镜部分包括底部隧道结、底部P-DBR层、底部限制层;其中,所述底部隧道结形成于所述衬底层顶表面上,所述底部P-DBR层和所述底部限制层叠置于所述底部隧道结;顶部镜部分,所述顶部镜部分包括至少一顶部P-DBR层和顶部隧道结,所述顶部隧道结叠置于所述顶部P-DBR层;有源区,所述有源区位于所述底部镜部分和所述顶部镜部分之间;主限制层,所述主限制层位于所述底部镜部分和所述顶部镜部分之间;以及电极接触层,所述电极接触层形成于所述顶部镜部分上;VCSEL阳极,所述VCSEL阳极包括第一N型金属层,所述第一N型金属层形成于所述衬底层;VCSEL阴极,所述VCSEL阴极包括电极金属层,所述电极金属层形成于所述电极接触层上。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 浙江睿熙科技有限公司 VCSEL发光点和VCSEL阵列以及光学设备和VCSEL器件的制造方法

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。