龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
申请/专利权人：河北工业大学
摘要：本发明为一种低去除速率铜布线钼阻挡层化学机械抛光液及其制备方法。该抛光液包括下述组分：氧化剂浓度为2.9～3.1mM，抑制剂总浓度为59.7～90.3mM，纳米级二氧化硅固体浓度为0.6～1.8wt.％，额外添加剂浓度为9.9～20.1mM，pH调节剂，pH为3.9～4.1，余量为水；所述氧化剂为碘酸钾KIO3；所述抑制剂为2，2'‑{[甲基‑1H‑苯并三唑‑1‑基甲基]亚氨基}双乙醇TT‑LYK、L‑组氨酸L‑Histidine和醋酸铈CeAc3。本发明是低技术节点下铜互连钼阻挡层酸性抛光液，抛光液具有静态腐蚀速率低电偶腐蚀差小低于20mV,且可以在低去除速率的条件下，实现钼、铜和TEOS去除速率可调控的特点。
主权项：1.一种低去除速率铜布线钼阻挡层化学机械抛光液，其特征为该抛光液包括下述组分：氧化剂浓度为2.9～3.1mM，抑制剂总浓度为59.7～90.3mM，纳米级二氧化硅固体浓度为0.59～1.81wt.％，额外添加剂浓度为9.9～20.1mM，pH调节剂，pH为3.9～4.1，余量为水；所述氧化剂为碘酸钾KIO3；所述抑制剂为2，2'-{[甲基-1H-苯并三唑-1-基甲基]亚氨基}双乙醇TT-LYK浓度为39.9～40.1mM、L-组氨酸L-Histidine浓度为9.9～10.1mM和醋酸铈CeAc3浓度为9.9～40.1mM，抑制剂总浓度为以三种物质浓度之和59.7～90.3mM；所述二氧化硅固体粒径为64～65nm；所述额外添加剂为柠檬酸钾C6H5K3O7。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 河北工业大学 低去除速率铜布线钼阻挡层化学机械抛光液及其制备方法
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号