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申请/专利权人：上海华力集成电路制造有限公司
摘要：本发明公开了一种去除掩模版上污染颗粒的装置，设置有照明灯组；照明灯组包括一个网格型光源的散光灯和一个聚光灯；散光灯开启后，网格型光源照射到掩模版上并将掩模版划分成多个第一网格，通过第一网格实现对掩模版上的污染颗粒的粗定位；聚光灯开启后用于照射粗定位对应的第一网格并实现对污染颗粒进行精定位，通过精定位实现对污染颗粒的快速去除。本发明还公开了一种去除掩模版上污染颗粒的方法。本发明能对掩模版上的污染颗粒进行快速定位，从而能对掩模版上的污染颗粒进行准确和快速的清除，提高清除污染颗粒的效率，还能避免二次污染以及降低掩模版多次开盒处理和返厂送洗的概率。
主权项：1.一种去除掩模版上污染颗粒的装置，其特征在于：装置中设置有照明灯组；所述照明灯组包括一个网格型光源的散光灯和一个聚光灯；所述散光灯开启后，所述散光灯的网格型光源照射到掩模版上并将所述掩模版划分成多个第一网格，通过所述第一网格实现对所述掩模版上的污染颗粒的粗定位；所述聚光灯开启后用于照射所述粗定位对应的所述第一网格并实现对所述污染颗粒进行精定位，通过所述精定位实现对所述污染颗粒的快速去除。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海华力集成电路制造有限公司 去除掩模版上污染颗粒的装置和方法
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