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申请/专利权人：盛吉盛半导体科技(无锡)有限公司
摘要：本发明公开了一种双腔式晶圆沉积装置及其沉积方法，涉及半导体技术领域。该双腔式晶圆沉积装置包括沉积台、盖板和两个加热平台。沉积台间隔设置有两个沉积空腔，盖板盖设于沉积台上，以同时封闭两个沉积空腔，盖板开设有两个进气口，每个进气口与一个沉积空腔连通，两个加热平台均与沉积台连接，每个加热平台设置于一个沉积空腔内，加热平台用于承载晶圆并对其进行加热。本发明提供的双腔式晶圆沉积装置能够同时对两个晶圆进行沉积，沉积效率高，经济效益好，并且能够避免不可接受的温度梯度的形成，保证沉积空腔温度的均匀性，提高沉积效果，提升产品质量。
主权项：1.一种双腔式晶圆沉积装置，其特征在于，包括沉积台、盖板和两个加热平台，所述沉积台间隔设置有两个沉积空腔，所述盖板盖设于所述沉积台上，以同时封闭两个所述沉积空腔，所述盖板开设有两个进气口，每个所述进气口与一个所述沉积空腔连通，所述进气口用于供反应气体通入所述沉积空腔，两个所述加热平台均与所述沉积台连接，每个所述加热平台设置于一个所述沉积空腔内，所述加热平台用于承载晶圆并对其进行加热；所述沉积空腔相对设置有第一侧壁和第二侧壁，所述加热平台间隔设置于所述第一侧壁和所述第二侧壁之间，所述加热平台与所述第一侧壁之间形成第一空隙，所述加热平台与所述第二侧壁之间形成第二空隙，两个所述沉积空腔中的两个所述第二侧壁均设置于两个所述沉积空腔中的两个所述第一侧壁之间；所述第一侧壁上依次设置有第一保温涂层和第一漫反射涂层，所述第一漫反射涂层的表面粗糙度大于从所述加热平台投射至所述第一侧壁的第一热辐射的波长，所述第一漫反射涂层用于对所述第一热辐射进行漫反射，以补偿所述第一空隙的温度，所述第一保温涂层用于隔绝外界环境温度；所述第二侧壁上设置有第二漫反射涂层，所述第二漫反射涂层的表面粗糙度大于从所述加热平台投射至所述第二侧壁的第二热辐射的波长，所述第二漫反射涂层用于对所述第二热辐射进行漫反射，以补偿所述第二空隙的温度。
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