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申请/专利权人：日照照芯半导体科技有限公司
摘要：本申请提供一种半导体湿法刻蚀清洁装置及清洁方法，涉及半导体晶圆加工领域。一种半导体湿法刻蚀清洁装置，包括：存储架，所述存储架的外侧固定连接有支腿架，且支腿架的底部固定连接有固定架，且固定架的一侧固定连接有气缸筒；所述存储架的内腔设置有升降组件，且升降组件的四周均设置有浸液组件；所述固定架的内腔设置有与气缸筒配合使用的供给组件，且供给组件的一侧设置有旋转组件。该半导体湿法刻蚀清洁装置及清洁方法，在对经过湿法刻蚀加工后的晶圆清洁期间，先对晶圆在清洗剂内进行反复下降浸没和升起脱离操作，将附着在晶圆表面的杂质进行反复浸没脱离清洁，同时对晶圆表面的杂质进行动态清洁操作。
主权项：1.一种半导体湿法刻蚀清洁装置，其特征在于，包括：存储架（1），所述存储架（1）的外侧固定连接有支腿架（2），且支腿架（2）的底部固定连接有固定架（3），且固定架（3）的一侧固定连接有气缸筒（4）；所述存储架（1）的内腔设置有升降组件（5），且升降组件（5）的四周均设置有浸液组件（6）；所述固定架（3）的内腔设置有与气缸筒（4）配合使用的供给组件（7），且供给组件（7）的一侧设置有旋转组件（8）。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 日照照芯半导体科技有限公司 一种半导体湿法刻蚀清洁装置及清洁方法
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