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一种基于物理气相沉积法的刀具表面镀层制备工艺 

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申请/专利权人:江苏偌伊纳米科技有限公司

摘要:本发明公开了一种基于物理气相沉积法的刀具表面镀层制备工艺,包括以下步骤:步骤一,步骤一,刀具预处理;步骤二,真空环境建立;步骤三,溅射过程;步骤四,镀层沉积;步骤五,后续处理;本发明提供的基于物理气相沉积法的刀具表面镀层制备工艺,通过该工艺制备的刀具表面镀层均匀、致密、与基体结合力强,能够显著提高刀具的耐磨性、耐腐蚀性、硬度等性能,同时,该工艺还可实现多种材料、多层结构的镀层制备,满足不同加工需求,该工艺具有操作简单、镀层质量好、适用范围广等优点,在刀具表面处理领域具有广阔的应用前景。

主权项:1.一种基于物理气相沉积法的刀具表面镀层制备工艺,其特征在于,包括以下步骤:步骤一,刀具预处理:a、对刀具进行清洗,去除表面的油污、锈迹等杂质,确保刀具表面干净、无杂质;b、对刀具进行粗糙化处理,以增加刀具表面的粗糙度,提高镀层与基体的结合力;c、将预处理后的刀具放入真空室内,进行真空离子清洗,去除表面的氧化物、杂质微粒等,进一步提高表面清洁度;步骤二,真空环境建立:a、关闭真空室,启动真空泵,将真空室内的气体抽出,建立高真空环境;b、通过真空计监测真空室内的压力,确保真空度达到预设值1×10-3-1×10-4Pa;c、启动加热系统,对真空室进行加热,使真空室内的温度达到预设温度范围350-450℃,并保持一定时间30-60min;步骤三,溅射过程:a、在真空室内安装所需的靶材,确保靶材与刀具之间的相对位置正确;b、引入反应气体,并通过气体流量计控制气体的流量;c、启动溅射电源,对靶材施加低电压、大电流的电弧放电,使靶材表面原子或分子蒸发;d、蒸发出的原子或分子在真空室内与反应气体发生化学反应,形成所需的化合物或合金;e、通过调节溅射参数,控制镀层的成分、结构和厚度;步骤四,镀层沉积:a、蒸发并反应后的原子或分子在刀具表面沉积,形成均匀的镀层;b、在沉积过程中,通过调整靶材与刀具的相对位置、改变溅射参数等方式,实现镀层的均匀性和致密性的控制,保证镀层质量;步骤五,后续处理:a、镀膜结束后,对刀具进行退火处理,以改善镀层的结晶度、致密度和内应力状态,提升硬度、韧性、抗氧化性等性能;b、根据需要,对刀具进行离子注入处理,引入特定元素如氮、碳等,进一步提高镀层的硬度和耐磨性;c、对刀具进行表面处理,如离子氮化、离子氧化等,以改善镀层的抗蚀性和降低摩擦系数。

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