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申请/专利权人:江阴纳力新材料科技有限公司
摘要:本实用新型公开了一种磁控溅射辊系装置,涉及磁控溅射设备技术领域,包括第一张力调节辊组件、第一张力辊、第一调节架、U型架、支撑片、气缸、支撑轴和扭簧。本实用新型中在第一张力调节辊组件在第一镀膜辊和第二镀膜辊之间进行张力调整,张力控制更加合理,第一镀膜辊和第二镀膜辊与膜面能够完全贴合,展平效果更好,可以使膜面贴第一镀膜辊和第二镀膜辊效果更好,张力控制更合理,避免因贴合效果、张力控制效果差而造成生产缺陷及性能缺陷;气缸可实现对第一张力辊的大角度调整处理,扭簧可有效实现对第一张力辊的小角度自适应弹性调整,使得膜面贴第一镀膜辊和第二镀膜辊效果更好,张力控制更合理。
主权项:1.一种磁控溅射辊系装置,包括放卷辊1、收卷辊2、第一镀膜辊3和第二镀膜辊4,其特征在于:所述第一镀膜辊3和第二镀膜辊4之间设有第一张力调节辊组件,所述第一张力调节辊组件包括第一张力辊6和第一调节架8,所述第一调节架8包括U型架9和两个支撑片10,所述第一张力辊6两端均分别与U型架9转动连接,所述支撑片10与磁控溅射壳体13内壁转动连接,所述支撑片10一端通过支撑轴12与U型架9外壁转动连接,所述支撑片10另一端与气缸11一端转动连接,所述气缸11另一端与磁控溅射壳体13内壁转动连接,所述支撑轴12与U型架9固定连接,所述支撑轴12外壁套设有扭簧,所述扭簧一端与支撑片10固定连接。
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