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申请/专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
摘要：本发明提供曝光投影物镜及光刻机中，从物面到像面依次设置的第一透镜组、第二透镜组、第三透镜组和第四透镜组，所述第一透镜组和所述第四透镜组用于补偿视场的像差，所述第二透镜组和所述第三透镜组用于补偿瞳面的像差。本发明通过第一透镜组和第四透镜组补偿视场的像差，第二透镜组和第三透镜组补偿瞳面的像差，提高了曝光投影物镜性能校正水平，能够直接提高光刻机曝光性能，实现更小的曝光分辨率和更小的临界尺寸均匀性。
主权项：1.一种曝光投影物镜，其特征在于，包括从物面到像面依次设置的第一透镜组、第二透镜组、第三透镜组和第四透镜组，所述第一透镜组和所述第四透镜组用于补偿视场的像差，所述第二透镜组和所述第三透镜组用于补偿瞳面的像差。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海微电子装备(集团)股份有限公司 曝光投影物镜及光刻机
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