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基板处理方法及处理液评价方法 

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申请/专利权人:株式会社斯库林集团

摘要:本发明涉及一种基板处理方法与处理液评价方法。基板处理方法用于处理形成有图案P的基板W。基板处理方法具备处理液供给步骤、固化膜形成步骤及升华步骤。在处理液供给步骤中,将处理液L供给至基板W。处理液L包含升华性物质与溶剂。在固化膜形成步骤中,溶剂自基板W上的处理液L蒸发。在固化膜形成步骤中,固化膜G形成于基板W上。固化膜G包含升华性物质。系数K通过界面自由能γLG、γGW、γLW定义。系数K为阈值TH以下。

主权项:1.一种基板处理方法,处理形成有图案的基板,其中,具备:处理液供给步骤,将包含升华性物质与溶剂的处理液供给至上述基板;固化膜形成步骤,使上述溶剂自基板上的上述处理液蒸发,将包含上述升华性物质的固化膜形成于上述基板上;及升华步骤,使上述固化膜升华;且通过下式定义的系数K为阈值以下,K=γLG+γGW-γLW其中,K:系数,γLG:上述处理液与上述固化膜之间的界面的界面自由能,γGW:上述固化膜与上述基板之间的界面的界面自由能,γLW:上述处理液与上述基板之间的界面的界面自由能。

全文数据:

权利要求:

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