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申请/专利权人：住友重机械工业株式会社
摘要：本发明提供一种能够提高处理性能的处理装置。等离子体生成部18通过基于等离子体放电的辐射热H参考图2进行加热，以去除真空腔室10内的水分。如此，通过使用等离子体生成部18中的基于等离子体放电的辐射热H，能够去除真空腔室10内的水分。因此，通过降低真空腔室10内的真空的极限压力，能够达到高真空度。由此，当在真空腔室10内进行成膜处理的情况下，能够通过提高膜质来提高处理性能。
主权项：1.一种处理装置，对对象物进行规定的处理，所述处理装置具备：腔室，用于容纳所述对象物，并在内部进行所述处理；及等离子体生成部，在所述腔室内生成等离子体，所述等离子体生成部通过基于等离子体生成的辐射热对保护板进行加热，以去除所述腔室内的水分。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 住友重机械工业株式会社 处理装置
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