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申请/专利权人：佳能特机株式会社
摘要：本发明提供一种对准装置、对准方法、成膜方法、掩模以及成膜装置。即使在使用透光性低的基板的情况下，也能够抑制对准标记的检测精度降低，提高对准精度。对准装置具备：检测构件，所述检测构件检测形成于基板的基板侧标记和形成于掩模的掩模侧标记；以及位置调整构件，所述位置调整构件基于所述检测构件的检测结果，调整所述基板与所述掩模的相对位置，其中，所述掩模具有第一部分和透光性比所述第一部分高的第二部分，所述掩模侧标记形成于所述第二部分，所述对准装置具备向所述第二部分照射光的照射构件。
主权项：1.一种对准装置，所述对准装置具备：检测构件，所述检测构件检测形成于基板的基板侧标记和形成于掩模的掩模侧标记；以及位置调整构件，所述位置调整构件基于所述检测构件的检测结果，调整所述基板与所述掩模的相对位置，所述对准装置的特征在于，所述掩模具有第一部分和透光性比所述第一部分高的第二部分，所述掩模侧标记形成于所述第二部分，所述对准装置具备向所述第二部分照射光的照射构件。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 佳能特机株式会社 对准装置、对准方法、成膜方法、掩模以及成膜装置
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