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成膜装置 

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申请/专利权人:无锡先为科技有限公司

摘要:本申请的实施例公开了一种成膜装置,其包括:反应容器,所述反应容器包括:腔体及盖体,所述盖体设置于所述腔体上,所述腔体与所述盖体之间围绕形成反应室;承载座,其设置于所述反应室内;以及射频线圈,其设置于所述承载座与所述腔体的底壁之间;其中,所述成膜装置还包括:第一冷却板,所述第一冷却板由铁磁性材料制成。根据本申请,其使得第一冷却板利用铁磁性材料的高磁导率形成高磁导通路,进而形成较佳的磁屏蔽,以对射频线圈产生的磁场进行屏蔽,以消除射频线圈产生的磁场对外部的电气元件的影响,保证外部的电气元件的正常使用。

主权项:1.一种成膜装置,其特征在于,包括:反应容器,所述反应容器包括:腔体及盖体,所述盖体设置于所述腔体上,所述腔体与所述盖体之间围绕形成反应室;承载座,其设置于所述反应室内;以及射频线圈,其设置于所述承载座与所述腔体的底壁之间;其中,所述成膜装置还包括:第一冷却板,所述第一冷却板平行于所述承载座,并设置于所述盖体的内部;或者,所述第一冷却板设置于所述盖体和所述承载座之间并与所述盖体内侧壁相连;所述第一冷却板由铁磁性材料制成;其中,所述第一冷却板为铁质材料时,所述第一冷却板设于所述盖体的内部,所述第一冷却板为镍质材料时,所述第一冷却板设于所述盖体和所述承载座之间并与所述盖体内侧壁相连;所述射频线圈间接固持于所述底壁上;所述成膜装置还包括:第二冷却板,所述第二冷却板平行于所述承载座,并设置于所述底壁的内部;或者,所述第二冷却板设置于所述底壁与所述承载座之间并与所述底壁相连;所述第二冷却板由铁磁性材料制成;其中,所述第二冷却板为铁质材料时,所述第二冷却板设于所述底壁的内部,所述第二冷却板为镍质材料时,所述第二冷却板设于所述底壁和所述承载座之间并与所述底壁相连。

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权利要求:

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