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氮化镓生长基材材料 

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申请/专利权人:罗伯特·博世有限公司

摘要:本发明涉及氮化镓生长基材材料。一种氮化镓GaN生长层包括第一表面、第二表面以及在所述第一和第二表面之间延伸的体区域,所述体区域具有在800K以上热膨胀系数CTE为约2‑25ppmK的多晶材料和一种或多种具有式I的尖晶石化合物:ZnxCd1‑xCryAl1‑y2O4I,其中x和y是0和1之间的任意数字,所述第一和所述第二表面中的一者包括GaN外延生长区域。

主权项:1.一种氮化镓GaN生长层,其包括:第一表面;第二表面;和在所述第一表面和第二表面之间延伸的体区域,所述体区域具有在800K以上热膨胀系数CTE为约2-25ppmK的多晶材料和一种或多种具有式I的尖晶石化合物:ZnxCd1-xCryAl1-y2O4I,其中,x和y是0和1之间的任意数字,所述第一和第二表面中的一者包括GaN外延生长区域。

全文数据:

权利要求:

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