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申请/专利权人：衢州学院
摘要：本发明公开了1342nm高功率高光束质量激光加工光源的设计方法，包括如下步骤:S1、研究像差和增益模式下振荡器的光束自再现对输出激光脉宽、光束质量的影响；S2、研究放大器中不同增益、信号光等条件下光束质量改善理论；S3、通过搭建MOPA实验系统，进行验证研究。本发明能够设计出1342nm高功率平均功率大于20W、高重复频率重复频率100kHz、窄脉宽小于15ns、高光束质量M2因子小于1.6激光加工光源。该光源能很好的集成到激光加工制造设备中，为工业激光加工系统提供了结构紧凑、高功率、高光束质量的优质激光光源。
主权项：1.1342nm高功率高光束质量激光加工光源的设计方法，其特征在于：包括如下步骤：S1、研究像差和增益模式下振荡器的光束自再现对输出激光脉宽、光束质量的影响；S2、研究放大器中不同增益、信号光等条件下光束质量改善理论；S3、通过搭建MOPA实验系统，进行验证研究。
全文数据：
权利要求：
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