买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！

申请/专利权人：尤利塔股份公司

摘要：一种用于在光刻胶层中形成具有期望的占宽比的空间变化的表面浮雕光栅的方法，该方法包括：提供带有线性特征的高分辨率光栅（32）的第一掩模（31），将所述第一掩模布置在距衬底（33）第一距离处，提供带有具有设计的占宽比的空间变化的不透明和透明线性特征的可变透射光栅（27）的第二掩模（28），将所述第二掩模布置在第一掩模之前的一定距离处，使得可变透射光栅的线性特征与高分辨率光栅的线性特征正交，照射第二掩模，同时根据位移Talbot光刻法改变第一距离，并且还将第二掩模相对于其线性特征以一定角度位移，使得在曝光光刻胶的能量密度分布中基本上不存在具有可变透射光栅的周期的调制的分量。

主权项：1.一种基于位移Talbot光刻法的方法，用于在衬底上的光刻胶层中形成具有占宽比的空间变化的周期性线性特征的期望的表面浮雕光栅，所述方法包括：a提供带有线性特征的第一高分辨率光栅的第一掩模，所述第一高分辨率光栅具有是期望的表面浮雕光栅的周期的两倍的周期；b在位移Talbot光刻系统中布置衬底和第一掩模，使得第一掩模平行于衬底并在距衬底第一距离处；c提供带有交替的不透明和透明线性特征的第一可变透射光栅的第二掩模，所述第一可变透射光栅具有一定的周期和占宽比的设计的空间变化；d将所述第二掩模平行于第一掩模并在距第一掩模第二距离处布置在距衬底第一距离处的第一掩模的相对侧上，并且使得第一可变透射光栅的线性特征与第一高分辨率光栅的线性特征正交；e产生用于照射第二掩模的单色光束，使得入射在第二掩模上的光在平行于第一可变透射光栅的线性特征的入射的平面中被良好地准直，并且在正交于第一可变透射光栅的线性特征的平面中具有预定的入射角的分布，使得由所述第一可变透射光栅透射的衍射光束照射第一高分辨率光栅；f用所述光束照射第二掩模达曝光时间，同时根据位移Talbot光刻法改变第一距离，由此由第一高分辨率光栅透射的光场将光刻胶曝光到能量密度分布，以用于形成所述期望的表面浮雕光栅；其中第一可变透射光栅中的占宽比的空间变化是基于使用位移Talbot光刻法形成的表面浮雕光栅的占宽比对在没有所述第二掩模的情况下照射第一掩模的光束的能量密度的预定依赖性以及根据期望的表面浮雕光栅的占宽比的空间变化来设计的；其中相对于第一可变透射光栅的周期选择所述第二距离和所述预定的入射角的分布，使得在曝光时间内曝光光刻胶的能量密度分布中不存在具有第一可变透射光栅的周期的调制的分量。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 尤利塔股份公司 用于印刷具有变化的占宽比的周期性图案的方法和装置