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申请/专利权人：上海邦芯半导体科技有限公司

摘要：本发明公开了一种具有超声波自净功能的反应腔结构及其自净方法，属于半导体技术领域，该反应腔结构在原反应腔结构的基础上增加了超声气溶胶清洗模块；超声气溶胶清洗模块包括：气溶胶、通气管及超声波发生器；气溶胶通过通气管通入到腔壳的内腔和管路中；气溶胶用于溶解或吸附腔壳和管路内的污垢；超声波发生器设有多个超声波馈入点，多个超声波馈入点分别设置在腔壳的腔壁上和管路的蝶阀A所在处的管壁上，超声波发生器在超声波馈入点处产生超声波，气溶胶在超声波的作用下吸附和溶解污垢后，通过泵抽走排出；本发明能够解决反应腔内长时间跑货后累计的污垢处理费时、费人力、人工清理容易清理不干净的问题，提升机台效率。

主权项：1.一种具有超声波自净功能的反应腔结构，其特征在于，在原反应腔结构的基础上增加了超声气溶胶清洗模块；所述原反应腔结构包括：腔壳、等离子体过滤板、ICP源、工艺气体源、晶圆、加热器、管路、泵及蝶阀A；所述等离子体过滤板安装在腔壳内，将腔壳的内腔分隔为两部分，分别为上腔和下腔；所述加热器和晶圆均位于腔壳的下腔中，且加热器安装在腔壳的底部，晶圆安装在加热器上，且晶圆与等离子体过滤板相对；所述ICP源和工艺气体源均通过腔壳顶部通入到腔壳的上腔中；所述ICP源为电感耦合等离子体源；所述腔壳的底部安装有一个与腔壳内腔相通的管路，所述管路上安装有蝶阀A和泵，相比于泵，蝶阀A的位置更靠近腔壳的底部；通过控制蝶阀A的开度，可以控制腔壳内腔的压强；所述反应腔结构跑货时，通过ICP源和工艺气体源激发等离子态反应物去除晶圆表面光刻胶，废气通过管路上的泵抽出，在跑货过程中，腔壳内壁、腔壳内部件、管路拐角处、蝶阀A处均容易积累污垢；超声气溶胶清洗模块包括：气溶胶、通气管、超声波发生器及控制单元；气溶胶通过通气管通入到腔壳的内腔和管路中；气溶胶用于溶解或吸附腔壳和管路内的污垢；超声波发生器设有多个超声波馈入点，多个超声波馈入点分别设置在腔壳的腔壁上和管路的蝶阀A所在处的管壁上，超声波发生器在超声波馈入点处产生超声波，气溶胶在超声波的激活作用下产生振动，振动的气溶胶使得污垢从腔壁和管壁上脱离，并吸附在振动的气溶胶上；同时，气溶胶还溶解污垢，溶解有污垢的气溶胶和吸附有污垢的气溶胶通过泵抽走排出；控制单元控制超声波发生器工作的启闭，进而控制超声气溶胶清洗模块的工作与否，还控制超声波发生器产生的超声波的频率；控制单元还控制加热器工作的启闭，来调节腔壳的内腔的温度；控制单元还控制蝶阀A的启闭和蝶阀A的开度来控制腔壳的内腔压力。

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