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申请/专利权人：苏州晶洲装备科技有限公司
摘要：本实用新型属于硅片清洁技术领域，提出一种一体式清洗槽，该一体式清洗槽包括第一槽体和第二槽体，第一槽体设置于第二槽体的内部，在向第一槽体的内部添加高浓度清洗液时，第一槽体内的低浓度清洗液与新添加的高浓度清洗液混合后的混合清洗液体积增加，部分混合清洗液能够向过渡容腔中转移，在转移的过程中，高浓度清洗液和低浓度清洗液能够进行混合，混合清洗液在转移到过渡容腔后，在第一斜面的作用下能够流向出液口，由于第一斜面的高度存在落差，一方面能够加快混合清洗液的流通速率，另一方面又能够进一步提高低浓度清洗液与高浓度清洗液之间的混合速率。
主权项：1.一体式清洗槽，其特征在于，包括：第一槽体1，所述第一槽体1的内部设置有容腔；及第二槽体2，所述第一槽体1设置于所述第二槽体2的内部，并且所述第二槽体2与所述第一槽体1之间拼构成过渡容腔3，所述过渡容腔3与所述容腔连通，所述过渡容腔3的底部为第一斜面，所述第一斜面的最低处设置有出液口221，所述出液口221与所述容腔连通。
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权利要求：
百度查询： 苏州晶洲装备科技有限公司 一体式清洗槽
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