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申请/专利权人：江西兆驰半导体有限公司
摘要：本实用新型提供了一种用于平片清洗的清洗装置，包括操作平台、设于所述操作平台上的风干组件及用于清洗平片的清洗组件，所述清洗组件包括吸附结构、设置于所述吸附结构上方的毛刷清洗结构、及设置于所述吸附结构下方的喷清洗结构，以对所述吸附结构上平片的上下两侧进行清洗，所述风干组件包括供热结构、与所述供热结构连通的至少两根供气管、及连接于所述供气管的且可调节角度的调节喷嘴，以对平片的上下两侧进行热风干，防止叠放时上一层平片的背面影响下一层平片的正面，从而提高平片的干净度。
主权项：1.一种用于平片清洗的清洗装置，其特征在于，包括操作平台、设于所述操作平台上的风干组件及用于清洗平片的清洗组件，所述清洗组件包括吸附结构、设置于所述吸附结构上方的毛刷清洗结构、及设置于所述吸附结构下方的喷清洗结构，以对所述吸附结构上平片的上下两侧进行清洗，所述风干组件包括供热结构、与所述供热结构连通的至少两根供气管、及连接于所述供气管的且可调节角度的调节喷嘴，以对平片的上下两侧进行热风干。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 江西兆驰半导体有限公司 一种用于平片清洗的清洗装置
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