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申请/专利权人:浙江材孜科技有限公司
摘要:本实用新型涉及半导体技术领域,特别涉及一种碳化硅晶体生长装置,包括:坩埚、第一多孔石墨片、第二多孔石墨片、籽晶托。基于PVT法生长碳化硅晶体生长的过程中,第一多孔石墨片、第二多孔石墨片过滤大颗粒的碳聚集体,减少晶体内部碳包裹体的形成,提升结晶质量;同时,第一多孔石墨片、第二多孔石墨片具有隔热作用,改善坩埚内部温度的梯度分布,提高碳化硅粉料区域的温度,使碳化硅粉料充分升华,提高碳化硅粉料的利用率,维持碳化硅籽晶区域的SiC平衡,提升碳化硅晶体的生长质量,并且也加快了碳化硅晶体的生长速率,从而提高生产效率。
主权项:1.一种碳化硅晶体生长装置,其特征在于,包括:坩埚、第一多孔石墨片、第二多孔石墨片、籽晶托;所述坩埚顶端具有开口,所述坩埚内容纳有碳化硅粉料,所述坩埚内侧壁具有第一装配结构,所述碳化硅粉料的高度小于所述坩埚内侧壁的第一装配结构;所述籽晶托盖设在所述坩埚的开口处,所述籽晶托朝向所述碳化硅粉料的一侧设置有碳化硅籽晶;所述第一多孔石墨片设置于所述碳化硅粉料的表面;所述第二多孔石墨片与所述坩埚的第一装配结构相配合。
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