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申请/专利权人：赫尔穆特费舍尔股份有限公司电子及测量技术研究所
摘要：本发明涉及一种用于X射线荧光分析仪11中的X射线光学元件19的调节装置和一种X射线荧光分析仪11，所述X射线荧光分析仪11包括用于产生X射线辐射18的X射线源12，X射线辐射18借助于X射线光学器件19被聚焦到测量对象21上，并且所述X射线荧光分析仪11具有检测器27，借助于检测器27能够检测被测量对象反射的X射线荧光辐射，其中设置安装框架35，安装框架35容纳第一框架36，第一框架36能够相对于安装框架35和第二框架37在第一方向上移位，第二框架37在第一框架36上以能够在第二方向上移位的方式被引导，其中，第一框架36进行移位运动的第一方向和第二框架37进行移位运动的第二方向彼此不同；并且其中设置贯通开口44，贯通开口44延伸穿过安装框架35、第一框架36和第二框架37，X射线光学器件19能够设置在贯通开口44中。
主权项：1.一种调节装置，用于X射线荧光分析仪11中的X射线光学器件19，所述X射线荧光分析仪11包括X射线源12，所述X射线源12用于产生X射线辐射18，所述X射线辐射18通过所述X射线光学器件19被聚焦到测量对象21上，所述X射线荧光分析仪11具有检测器27，借助于所述检测器27能够检测被所述测量对象反射的X射线荧光辐射，其特征在于：设置有安装框架35，所述安装框架35容纳第一框架36，所述第一框架36能够相对于所述安装框架35和第二框架37在第一方向上移位，所述第二框架37在所述第一框架36上被引导以能够在第二方向上移位，其中，所述第一框架36进行移位运动的所述第一方向和所述第二框架37进行移位运动的所述第二方向彼此不同；设置有贯通开口44，所述贯通开口44延伸穿过所述安装框架35、所述第一框架36和所述第二框架37；以及所述X射线光学器件19能够设置在所述贯通开口44中。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 赫尔穆特费舍尔股份有限公司电子及测量技术研究所 用于X射线荧光系统中的X射线光学元件的调节单元和X射线荧光系统
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